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ICR(산업용크린룸)

ICR (INDUSTRIAL CLEAN ROOM) - 산업용 크린룸

최근 정밀 반도체산업, 기계공업 및 항공산업 등 첨단산업의 발달로 인하여 작업공정에 따라 정밀화, 고품질화 및 높은 신뢰성이 충족되는 환경이 요구되고 있습니다. 전자공장, FILM공장 또는 정밀 기계공장 등에서는 실내 부유미립자가 제조 중인 제품에 부착되면 제품의 불량을 초래하고, 사용목적에 적합한 제품의 생산에 저해요소가 되어 제품의 신뢰성과 생산원가에 막대한 영향을 미치므로 공장 전체 또는 중요한 작업이 이루어지는 부분에 대해서는 필요에 대응하는 청정한 환경이 유지되도록 하여야 합니다.

이러한 목적을 이루기 위하여 필터에 의한 여과, 온도, 습도, 공기압, 소음, 정전기, 조도 등을 제어하여 작업 공정에 맞는 환경을 조성합니다. 이러한목적의 청정공간을 ICR(Industrial Clean Room)이라하며 작업공정에 따라 각기 다른 청정상태가 요구되고 있습니다.

산업용 크린룸(Industrial Clean Room)의 적용분야
ICR의 적용분야
ICR의 용도 및 필요성
반도체공장
* 표면처리, 시험, 연마원료 및 제품보관
레이저공업/광학기계공업
* 렌즈연마, 의료용 카메라 가공, 필름제조, 마이크로 필름현상
정밀기계
* 전자시계, 부품조립, 극소형 베어링
우주항공산업
* 로켓 부품 가공, 조립, 인공위성 제어장치
컴퓨터
* 자기드럼, 자기테이프, 컴퓨터 가공, 조립, 검사
전자기계
* 브라운관, 프린트판, 소형릴레이,정밀전기계기, 액정판
원자력발전소
* 방사능 분진 제거
산업용 크린룸(Industrial Clean Room)의 청정도

크린룸의 청정도 단위는 클래스(Class) 단위를 사용. 클래스(Class) 뒤에는 숫자가 표기되는데 이 숫자는 가로와 세로, 높이가 각각 1피트인 정육면체 공간에 포함하고 있는 0.5㎛ 크기의 먼지 숫자를 의미함. 예로 들어 대규모집적(LSI) 반도체의 경우 웨이퍼 공정(전공정)에는 Class 1~Class 100의 높은 청정도를 요구하지만 LSI의 조립과 검사공정 등 후공정은 Class 100~Class 10만까지도 가능.


산업용 크린룸(Industrial Clean Room)
산 업
청정도 등급(CLASS)
10
100
1,000
10,000
100,000
I
C
R













    결정 제조 SILICONE CRYSTALLIZATION  
웨이퍼제조 WAFER MANUFACTURE  
확산 DIFFUSION      
웨이퍼처리 WAFER PROCESSING    
포토리소그래피 PHOTOLITHOGRAPHY      
칩제조 IC CHIP MANUFACTURE    
    조립 ASSEMBLING
  검사 INSPECTION



  자기드럼테이프 MAGNETIC TAPE    
  쉐도우 마스크 SHADOW MASK  
  고신뢰관 HIGHRELIBLE TUBE    



  자이로스코프 미뉴티어
베어링
GYROSCOPE MINUTIA
BEARING
   
  로케트용 부품 PARTS FOR ROCKET
      시계 계기 베어링 WATCH METER BEARING




  렌즈 LENS  
고직접회로마스크 LSI MASK      
  프린트판 PRINT CIRCUIT BOARD
    필름 FILM  
  정밀인쇄 PRECISION PRINT

  무진의 세탁 LAUNDRY FOR CLEAN GARMENTS
레이저발생기 LASER GENERATOR    
산업용 크린룸(Industrial Clean Room)의 단면도

산업용 크린룸(Industrial Clean Room)의 규격

1963년 미국연방규격 FS209B(Federal Standard 209b)가 ICR(산업용 크린룸) 규격으로 공식 제정하였습니다. 규격은 청정도 외에 압력, 기류속도, 온도, 습도, 조도에 이르기까지 다양한 항목에 대하여 규정하고 있습니다. FS209는 1988년의 209D, 1992년의 209E 등 수 차례 변경되었습니다. 다른 나라에서는 FS209를 참고로 하여 독자적인 규격을 제정하여 사용하고 있습니다. 일본에서는 1㎥의 공기 중에 포함되어 있는 입자경이 0.1㎛ 이상의 입자수를 10의 자승으로 표시한 지수 (10N/㎥의 N)을 Class 표시로 하고 있습 니다. 1999년 청정도에 관한 국제 규격인 ISO14644가 발표되어 세계적 규격의 통일을 마련하였습니다.

BCR(Biological Clean Room) 규격은 NASA규격에 규정되어 있고, NHB 5340.1과 5340.2가 있습니다. 이들 규격의 내용은 FS209B와 거의 유사하지만 이들 규격에 생물입자에 관한 규정만을 추출한 것입니다.


크린룸(Clean Room)설치 시 유의사항
구 분
내 용
1. 청정도
일정량의 공기 중에 포함된 먼지나 오염의 정도 (먼지의 수/ft³)로 기류방식, 환기회수, 실내압을 충분히 검토.
2. 배치(Lay out)
사람, 재료 등의 출입통로, 유틸리티, 유지보수 등을 사전에 고려하여 동선계획을 확정.
3. 소재(MATERIALS)
기류변화를 주지 않는 구조를 택해야 하며 먼지가 쌓이지 않고 청소가 용이하게 제작.
4. 설비(EQUIPMENTS)
Air Shower, Pass Box, Relief Damper 등을 적재적소에 설치.
5. 시설(UTILITY)
급배수, 가스, 전기 등의 공급을 사전에 검토하여 유지보수 시 청정도에 영향을 주어서는 안된다.
6. 안전대책
크린룸은 밀폐된 공간이므로 화재, 가스누설, 정전 시를 대비하여 안전대책을 검토해야 한다.